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[单选题]

在半导体芯片的生产中,要将直径8英寸的晶圆盘切割成3000粒小芯片,目前由于工艺水平的限制,小芯片仍有1%~2%的不良率。试生产了一段时间,生产初步达到了稳定,为了监控小芯片的不良率,在两个月内的每天固定抽检5个晶圆盘,测出不良小芯片的总数。要根据这些数据建立控制图,这时应选择下列何种控制图()。

A.np图或P图都可以,两者效果一样

B.np图或P图都可以,np图效果更好

C.np图或P图都可以,p图效果更好

D.以上都不对

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更多“在半导体芯片的生产中,要将直径8英寸的晶圆盘切割成3000粒…”相关的问题
第1题
芯片是由半导体材料制作而成的,其基本元器件是:()。

A.硅元素

B.由PN结构成的二极管

C.硅晶圆

D.门电路

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第2题
实际生产中,在某一具体加热条件下,所得到的奥氏体晶粒度称为()。

A.实际晶粒度

B.本质晶粒度

C.起始晶粒度

D.名义晶粒度

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第3题
以上各物质在片剂生产中的作用。①填充剂、崩解剂、浆可作黏合剂()。②崩解剂()。③粉末直接压片用的填
以上各物质在片剂生产中的作用。①填充剂、崩解剂、浆可作黏合剂()。②崩解剂()。③粉末直接压片用的填

以上各物质在片剂生产中的作用。

①填充剂、崩解剂、浆可作黏合剂()。

②崩解剂()。

③粉末直接压片用的填充剂、干燥黏合剂()。

A.糊精

B.淀粉

C.羧甲基淀粉钠

D.硬脂酸镁

E.微晶纤维素

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第4题
目前在我国预应力混凝土大直径管桩的生产中采用了()等工艺。

A.高速离心

B.振动

C.辊压

D.二次振捣

E.真空吸水

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第5题
目前在我国预应力混凝土大直径管桩的生产中采用了()等工艺。

A.高速离心

B.振动

C.辊压

D.二次振捣

E.真空吸水

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第6题
目前在我国预应力混凝土大直径管桩的生产中采用了()等工艺。

A.高速离心

B.振动

C.辊压

D.二次振捣

E.真空吸水

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第7题
目前在我国预应力混凝土大直径管桩的生产中采用了()等工艺。

A.高速离心

B.振动

C.辊压

D.二次振捣

E.真空吸水

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第8题
目前在我国预应力混凝土大直径管桩的生产中采用了()等工艺。

A.高速离心

B.振动

C.辊压

D.二次振捣

E.真空吸水

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第9题
目前大多数集成电路生产中,所采用的基本材料为()

A.单晶硅

B.非晶硅

C.锑化钼

D.硫化镉

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第10题
在长丝生产中,计量泵泵供量为1.Oml£¯s,喷丝头孔数为144孔,喷丝孔直径0.13mm,卷绕速度为2500m£¯min,计算喷丝头拉伸比。
在长丝生产中,计量泵泵供量为1.Oml£¯s,喷丝头孔数为144孔,喷丝孔直径0.13mm,卷绕速度为2500m£¯min,计算喷丝头拉伸比。

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